ความต้านทานการสึกหรอของชั้นเคลือบวาเนเดียมคาร์ไบด์ที่เคลือบด้วยกระบวนการ TD

ผู้แต่ง

  • ฟูศักดิ์ บุญยกุลศรีรุ่ง สถาบันวิจัยโลหะและวัสดุ จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
  • ประสงค์ ศรีเจริญชัย ภาควิชาวิศวกรรมศาตร์โลหการ คณะวิศวกรรมศาตร์ จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย

Downloads

Download data is not yet available.

ดาวน์โหลด

เผยแพร่แล้ว

2022-08-21

วิธีการอ้างอิง

[1]
บุญยกุลศรีรุ่ง ฟ. และ ศรีเจริญชัย ป., “ความต้านทานการสึกหรอของชั้นเคลือบวาเนเดียมคาร์ไบด์ที่เคลือบด้วยกระบวนการ TD”, J Met Mater Miner, ปี 8, ฉบับที่ 2, น. 1–14, ส.ค. 2022.

ฉบับ

บท

บทความวิชาการ

Most read articles by the same author(s)